ASML đã công bố hoàn tất chuẩn bị High‑NA EUV cho sản xuất hàng loạt chip mỏng nhất.

ASML thu hút sự chú ý của các nhà sản xuất chip ngay cả với công nghệ High‑NA

Các nhà sản xuất vi mạch dự định phát hành chip mà không sử dụng máy quét có độ mở số cao (High‑NA) đã bắt đầu quan tâm đến các hệ thống lithography mới của ASML. Công ty Hà Lan khẳng định rằng thử nghiệm cho thấy thiết bị đã sẵn sàng cho sản xuất hàng loạt.

Dữ liệu chính từ giám đốc kỹ thuật

Giám đốc kỹ thuật của ASML, Marco Peters, thông báo với Reuters rằng kết quả kiểm tra các máy quét High‑NA EUV cho phép công ty trình bày chúng tại San Jose trong hội nghị công nghệ sắp tới. Theo kết quả thử nghiệm với những máy quét tiên tiến nhất, đã xử lý được khoảng 500 000 tấm silicon theo quy trình sản xuất dưới 2 nm.

Sẵn sàng cho phát hành hàng loạt

Mỗi máy quét này có giá khoảng 400 triệu USD, nhưng ASML tuyên bố rằng chúng “định tính” đã sẵn sàng cho sản xuất đại trà. Thiết bị đảm bảo độ chính xác phơi sáng cần thiết và chỉ dừng hoạt động không quá 20 % thời gian do cài đặt và sửa chữa. Điều này làm cho nó phù hợp với sản xuất hàng loạt các chip tiên tiến.

Thời kỳ thích ứng của khách hàng

Tuy nhiên, khách hàng vẫn cần thêm hai–ba năm để hoàn toàn triển khai công nghệ High‑NA EUV vào dây chuyền sản xuất của mình. Hiện tại, những ông lớn như Intel, TSMC và Samsung đã đang nghiên cứu thiết bị này.

Đến cuối năm hiện tại, ASML dự định giảm thời gian ngừng hoạt động xuống còn 10 % và cải thiện hiệu suất của các máy quét. Công ty sẵn sàng chia sẻ dữ liệu chi tiết với khách hàng để thuyết phục họ về tính hợp lý khi chuyển sang thế hệ lithography mới.